硅（Si）窗口

杭州煦和光电技术有限公司提供硅 (Si) 窗口片，该窗口片采用光学级硅（直拉法或区熔硅）制成，适用于红外应用。硅窗口片在红外光谱中表现出良好的透射特性，尤其是在中波红外和长波红外光谱区域。由于硅窗口片具有高热导率，因此在激光器中表现出色。此外，硅窗口片密度低（2.329 g/cm3，仅为锗或硒化锌的一半），有利于实现重量敏感型设计。硅具有耐化学性和耐磨性，这使得硅窗口经久耐用，适合在严苛的环境中 使用（事实上，它是对 1000-1600nm 光透明的最坚硬的材料）。

使用 Czochralski 法生长的硅晶体非常适合 MWIR（3-5μm）光谱中的应用。在沉积针对波长范围优化的 AR 涂层后，CZ 硅窗口的反射率可能很小。然而，CZ 硅在 9μm 处具有很强的吸收带。在生产过程中，浮区硅会掺杂氮并进行净化以减少其碳和氧成分，从而衰减 9μm 处的吸收，因此 FZ 硅窗口可用于 LWIR（8-12μm）范围。

Shalom EO 提供定制硅窗口。硅窗口具有各种定制尺寸，最大直径为300毫米。镀膜选项包括DLC/AR镀膜和AR/AR镀膜。

曲线：

1. 硅窗口（无镀膜）的透射曲线

2. 3-5μm 硅窗口片增透/减透膜透射曲线

3. 0.5mm厚FZ硅窗口（无AR镀膜）的透射率

4. 0.5mm 厚 FZ 硅窗口透射率，AR 涂层优化，8-12 微米