光刻多光谱滤光片

模块或类型:

光刻多光谱滤光片是一种精密生产的多光谱滤光片，采用镀膜技术与光刻工艺相结合制造而成。光刻工艺是一种制作薄膜图案的精细技术，利用紫外光照射光学掩模，通过感光化学过程将光学掩模上的现有几何图案转移到基板上。在光刻多光谱滤光片的初始处理过程中，使用光刻方法对特定通道的光掩模进行镀膜和结构化。第一层镀膜形成后续滤光片镀膜的孔径，高性能薄膜镀膜将按顺序镀在图案化的孔径内。多层薄膜镀膜对特定光谱具有高透射率，并组装在一个单片基板上。这种设计为多光谱成像采集提供了极大的便利，使设计更加紧凑。根据需要，多光谱滤光片可用于各种应用，例如遥感图像处理、医学成像、生物医学研究、环境监测和工业检测。在这些应用中，多光谱滤光片有助于对目标物体或场景进行更详细、更准确的分析。

Shalom EO 提供标准和定制光刻多光谱滤光片。标准光刻多光谱滤光片包括 4 通道滤光片和 5 通道滤光片。该滤光片采用先进的薄膜镀膜和光刻技术，将光线分离成多个离散的光谱带，具有清晰的光谱起始/截止特性，并在透射带内具有卓越的透射率。薄膜镀膜沉积在光学级蓝宝石基板上，具有无与伦比的硬度，可承受高难度操作的严苛考验。凭借精确的几何规则，我们实现了 10/5 S/D 的高精度标准和 ±5µm 的图形尺寸公差。我们的多光谱滤光片与 CCD、CMOS、SWIR、MIDIR 和 LWIR 等成像传感器结合使用，可选择特定光谱范围在多个像素上成像，从而提供出色的成像效果。

我们标准光刻多光谱滤光片的透射曲线：

如透射曲线所示，我们的样品光刻多光谱滤光片在设计的光谱通道中表现出高且平坦的透射性能，并能有效抑制不需要的光。

绘画：