超抛光基板和镜子

对于一些要求严格的应用，例如深紫外 (DUV) 激光器、超高功率激光系统和环形激光陀螺仪，反射镜的高反射率和低散射损耗是至关重要的因素之一，而为了生产出满足这些应用需求的反射镜，需要粗糙度值低至微米级的基板。

超抛光技术是一种常用于制造光学应用超抛光镜面基板的制造技术。杭州沙洛姆光电技术有限公司通过改进经典的超抛光方法，开发出了一种高效可靠的超抛光技术。采用该技术生产的光学基板或反射镜在大规模生产中，粗糙度小于 1Å，并能保证快速交付给客户。我们的检测部门配备了原子力显微镜 (AFM) 和 Zygo 干涉仪，对产品质量进行严格控制。除了环形陀螺激光器的反射镜外，我们还提供各种不同材质的超抛光镜面基底，包括BK7、紫外熔融石英、Zerodur、ZnSe、ZnS、Ge、Si、CaF2、MgF2和蓝宝石。

虽然磁流变 (MR) 流体抛光技术（即在计算机控制的磁流变抛光液中抛光光学表面）似乎是一种在光学器件制造中实现极低粗糙度表面光洁度的有效方法，但其高成本和低生产效率使其在工业应用中并不实用。因此，大多数超抛光光学器件都是采用传统和经典的抛光方法制造的。Shalom EO 开发了一种对经典抛光技术的独特改进，用于生产超抛光镜面和镜面基底。在加工过程中，采用倾斜板作为安装工具。 Shalom EO 能够通过我们最先进的抛光技术实现超抛光镜子和镜面基板，其粗糙度小于 1Å，中心区域无划痕/凹陷，反射性能优异。

检测结果：

1. 原子力显微镜检测

图1. 原子力显微镜 (AFM) 测量超抛光表面粗糙度
（熔融石英基板，直径 200mm，Ra=0.28nm）

2. Zygo 干涉仪检测

图 2. 使用 Zygo 干涉仪测量超抛光表面的平整度

（熔融石英基板，直径 300mm，PV=0.101 波长 @633nm）