GOS陶瓷（GOS:Pr、GOS:Tb）

GOS陶瓷，又称氧化硫化钆陶瓷，主要由化合物氧化硫化钆（Gd2O2S）组成。GOS陶瓷属于六方晶系结构（空间群：P3− ml；晶格参数：a = b = 0.3851 nm 和 c = 0.6664 nm），具有三角对称性。

氧化硫化钆（GOS）是一种优异的闪烁材料，因为它具有高密度（7.43 g/cm3）和足够的Gd原子序数。这些特性使其与X射线辐射的相互作用势能更大。固态 Gd2O2S (GOS) 还表现出良好的化学和物理特性，例如高熔点（2070 ◦C）、高 X 射线衰减系数（70 keV 时约 52 cm−1）、宽带隙（4.6–4.8 eV）、良好的化学耐久性、低声子能量、低晶体对称性和低毒性，这使其成为发光和闪烁应用的有前途的主体材料。

铽激活氧化硫化钆 (GOS: Tb​​) 作为 X 射线成像的闪烁体具有突出表现。其发射波长在382nm至622nm之间，发射峰位于545nm。采用均相沉淀法合成的GOS:Pr亚微米荧光粉有望成为一种新型绿色发光材料，应用于高分辨率数字X射线成像领域。它也是投影式显像管（CRT）中性能优异的绿色荧光粉。

GOS:Pr（镨激活氧化硫化钆）展现出独特的发光性能。 Pr3+激活的GOS陶瓷具有高X射线转换效率、对入射X射线的强大阻止能力、短寿命、快速余辉、高化学稳定性和良好的发射性能，与硅光电二极管的高灵敏度相匹配，是一种适用于高质量成像应用的有效陶瓷闪烁材料。

杭州煦和光电技术有限公司提供GOS:Pr和GOS:Tb闪烁材料。我们的Pr掺杂GOS和Tb掺杂GOS具有高光输出、低余辉和环保等特点。我们已开发出具备所需能力的先进生产线。此外，我们还提供GOS闪烁屏。

图 1. GOS 闪烁屏结构示意图

GOS 闪烁屏制作工艺介绍

1. 采用共沉淀法制备 Gd2O3 和 Tb2O3 混合粉末；

2. 高温硫化烧结形成 GdSO 颗粒；

3. 加入粘合剂，压制成片，并与 PET 基板粘合；

4. 在出光面上粘贴保护层；

5. Gd2OS2:Tb，发射峰为 550nm。

图1. GOS闪烁层厚度参数图