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  • BGO闪烁体阵列
  • BGO闪烁体阵列

BGO闪烁体阵列

  • 不吸湿,机械强度高,
  • 良好的抗辐射性能
  • 高密度和原子序数,几乎完全没有余辉
  • 最小像素或晶体单元尺寸:0.3mm x 0.3mm
  • 主要应用:高能物理 (HEP)、小型断层扫描设备、伽马辐射监测、安全控制、辐射同位素识别设备、无损检测、测井
  • 可组装为多层闪烁阵列
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基本性质:

熔点 (K) 1323 密度 (g/cm3) 7.13
热膨胀系数 (C-1) 7 x 10-6 解理面
硬度 (莫氏) 5 吸湿性
最大发射波长(nm) 480 下截止波长(nm) 320
发射峰折射率 2.15 发射峰波长(nm) 550
下截止波长(nm) 330 初始衰减时间(ns) 300
光产额((光子/keVγ) 8-10 光电子产额 [NaI(Tl) 的百分比](γ 射线) 15-20
温度响应 -1.2%/℃ 中子俘获截面 1.47b
余辉 @ 20ms 150ppm

锗酸铋 Bi4Ge3O12 (BGO) 是一种常见的重氧化物闪烁体材料。BGO 的原子序数高达 83,质量也很大(7.13 g/cm³)。BGO 闪烁体的发光光谱在可见光谱范围内的 480 nm 处达到最大值。BGO 的优点包括其不吸湿性以及良好的机械和辐射稳定性。BGO 闪烁体在高达 103 rad 的辐射剂量下也能保持稳定。

BGO 晶体的另一个重要优势是几乎完全没有余辉。BGO 主要闪烁成分在室温下的衰减时间为 300 ns。 BGO晶体的上述所有优势使其成为高能物理、紧凑型断层扫描设备和主动背景辐射防护领域极具吸引力的候选材料。

杭州煦和光电技术有限公司提供像素化BGO闪烁阵列,并可根据客户需求定制像素尺寸和设计。沙洛姆光电技术的像素化BGO闪烁体非常适合正电子发射断层扫描 (PET)、计算机断层扫描 (CT)、工业无损检测 (NDT) 和其他研究应用。我们的单层BGO阵列系列还可以集成到多层闪烁阵列中,进一步提高正电子发射断层扫描 (PET) 的分辨率。

多层闪烁阵列

多层闪烁阵列

  • 基于 BGO 或 LYSO(Ce)
  • 定制多层阵列,最多可达 4~5 层
  • 用于提高 PET(正电子发射断层扫描)的分辨率
  • 如有需要,可集成额外的光导
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锗酸铋(BGO)闪烁晶体

锗酸铋(BGO)闪烁晶体

  • 不吸湿,机械强度高
  • 高密度,高抗辐射
  • 最大尺寸:ɸ 75 毫米 x 300 毫米
  • 可提供块体晶体和BGO闪烁阵列 
  • 主要应用:正电子发射断层扫描 (PET)、高能物理、核医学、地质勘探和伽马脉冲光谱仪
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