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Gd2O2S:Tb闪烁体阵列

  • 高光输出和低余辉
  • 非常适合与工作电压为 25-130kV 的探测器配对
  • Gd 超高中子俘获截面
  • 高空间分辨率
  • 应用:CT 扫描仪、辐射探测、安全设备和无损检测
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与其他材料的特性比较

材料CsI(Tl)GOS:TbGOS:Pr
峰值波长560550510
形态立方体多晶陶瓷多晶陶瓷
透明度透明半透明半透明
光输出/MeV590004650027000
衰减时间/ns16003
余辉/@3ms≤1%≤0.1%≤0.05%
原子系数646060
密度/g-cm34.517.347.34
吸湿性略有
辐照伤害/12%(1Mrad)6%(1Mrad)

GOS陶瓷(Gd2O2S)属于六方晶系结构。在众多无机闪烁体中,氧化硫化钆(Gd2O2S,GOS)基材料因其高密度(7.34 g/cm3)、宽带隙(4.6 eV)、高抗辐射性能而颇具吸引力。掺杂Tb离子的GOS具有光输出高、无环境有害成分、余辉低等特点,发射峰波长范围为470至900 nm;它通常与工作电压为25-130kV的低能探测器配对,可用于CT扫描仪、辐射探测、安全设备和无损检测等各种用途。

近年来,随着中子探测技术的快速发展,GOS:Tb闪烁体由于其超高的Gd中子俘获截面、高空间分辨率以及与CCD相机良好的耦合性(GOS具有粉末状结构,可与任意像素尺寸的传感器耦合)而显示出良好的应用前景。